A. 阿斯麥合作的上市公司
中國石油化工股鉛拆份有限公司、中國石油天然氣股份有限公司和中國石油化工集團股份有液激緩限公司。
阿斯麥公司在中國投資的上市公司有三家，分別是中國石油化工股份有限公司、中國石油天然氣股份有限公司和中國鬧模石油化工集團股份有限公司。
阿斯麥公司是一家全球性的能源和化工公司，在中國投資的上市公司主要集中在石油和化工行業。
B. asml是哪個國家的
荷蘭。
阿斯麥（ASML Holding N.V.）是在荷蘭費爾德霍芬的半導體設備製造商。公司同時在歐洲和美國NASDAQ上市。有從業員工28,000多名。
阿斯麥公司的主要產品是用於生產大規模集成電路的核心設備光刻機。在世界同類產品中有90％的市佔率，在14納米製程以下有100％的市佔率。
總部位於荷蘭埃因霍芬（Eindhoven），歐洲人均科研經費排名第二的高科技公司。
ASML在歐洲、亞洲及美國的50多個地區擁有9245名員工，其中固定員工7184，男女比例為9：1。
據Bloomberg數據，2018年全球五大半導體設備製造商分別為應用材料（AMAT）、阿斯麥（ASML）、東京威力科創（TEL）、科林研發（Lam Research）、科磊（KLA）。
現在市場上提供量產商用的光刻機廠商依照排名，首位阿斯麥、第二名尼康（Nikon）、以及佳能（Canon）共三家，根據2007年的統計數據，在中高端光刻機市場，阿斯麥公司約有60%的市場佔有率。
而最高端市場（immersion），阿斯麥公司目前約有90%的市場佔有率，在14納米節點以下更獲取100%市佔率，同業競爭對手已無力追趕。
TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾、三星、海力士、台積電、聯電、格羅方德及其它台灣十二英寸半導體廠。
除了目前致力於開發的TWINSCAN平台外，阿斯麥公司還在積極與IBM等半導體公司合作，繼續研發光刻技術，用於關鍵尺度在22納米甚至更低的集成電路製造。
歷史發展
2008年，阿斯麥公司已超過日商東京威力科創成為世界第二大半導體設備商。
2010年，以銷售額計算阿斯麥公司高端光刻機市佔率已達到將近90%。
2011年，阿斯麥公司已超過美商應用材料公司(Applied Materials, Inc)成為世界第一大半導體設備商。
2012年7月10日英特爾斥資41億美元收購荷蘭晶元設備製造商阿斯麥公司的15%股權，另出資10億美元，支持阿斯麥公司加快開發成本高昂的晶元製造科技。
2012年10月17日ASML Holding NV（ASML）與Cymer (CYMI)宣布簽訂合並協議，阿斯麥公司將以19.5億歐元收購Cymer所有在外流通股票，收購Cymer目的在於加速開發Extreme Ultraviolet半導體蝕微影技術。
C. 光刻機霸主阿斯麥封神之路
芯 東西（ID：aichip001）文 | 董溫淑
現並答並在，5nm製程晶元作為目前可量產的最先進晶元，將是頂級手機的標配，也是摩爾定律真正的捍衛者。年內將推出的華為Mate 40採用的麒麟1020晶元、蘋果iPhone 12搭載的A14仿生晶元不出意外，都會採用5nm製程。
不少證據正在證實這一點，3月份，有爆料稱台積電成功流片麒麟1020；4月份，台積電宣布為蘋果代工A14晶元；在近期的中美貿易摩擦中，台積電是否能絕跡按時向華為出貨Mate 40晶元也著實讓人捏了一把汗。這一連串事件之中，為兩大手機龍頭代工晶元的台積電成為關鍵角色，舉足之間關系著華為手機晶元供應的命運。
然而， 台積電能吃下蘋果、華為的5nm訂單，背後還少不了一家荷蘭廠商的存在 ：晶元製造要想突破10nm以下節點，必須要用到EUV（極紫外線）光刻技術，而 EUV光刻機只有荷蘭公司阿斯麥（ASML）能造 。不論是5nm量產賽道第一名台積電，還是第二名三星，想造出產品，就只能先乖乖向阿斯麥訂貨。
作為全球5nm產線不可或缺的狠角色，阿斯麥到底是一家什麼樣的公司？
我們不妨先理解「光刻」這項技術的重要性。如果把晶元比作刻版畫。晶元生產的過程就是在硅襯底這張「紙」上，先塗上一層名為光刻膠的「油墨」，再用光線作「筆」，在硅襯底上「拓」出需要的圖案，然後用化學物質做「刻刀」，把圖案雕刻出來。
其中，以光線為「筆」、拓印圖案這一步被稱為光刻。在晶元製造幾百道工序里，光刻是晶元生產中最重要的步驟之一。圖案線條的粗細程舉雹度直接影響後續的雕刻步驟。目前市場上主流的光刻技術是DUV（深紫外線）技術，最先進的則是EUV技術。
完成這一步需要用到的設備——光刻機，一台售價從數千萬美元高至過億美元。要知道，美國最先進的第五代戰機F-35閃電II式的售價還不到8000萬美元。
放眼全球，光刻機市場幾乎被3家廠商瓜分：荷蘭的阿斯麥（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。
在這3家中，阿斯麥又是當之無愧的一哥。據中銀國際報告， 阿斯麥全球市場市佔率高達89% ！其餘兩家的份額分別是8%和3%，加起來僅有11%。 在EUV光刻機市場中，阿斯麥的市佔率則是100% 。
要指出的是，阿斯麥並非生來就含著金湯匙。阿斯麥成立於1984年，入局光刻機市場晚於尼康（1917年成立，1980年發售其首款半導體光刻機）和佳能（1937年成立，1970年推出日本首台半導體光刻機）。成立之初，阿斯麥只有31名員工，還曾面臨資金鏈斷裂的窘境。
36年間，這家幾近破產的小公司是怎樣成長為光刻機一哥的？又是如何在十多年裡占據第一寶座屹立不倒的？今天，智東西就來復盤這家荷蘭光刻機之星的逆襲之路。
更為重要的一點，在美國狙擊華為晶元供應的組合拳里，阿斯麥間接或直接地成為一顆關鍵棋子，美國人憑什麼限制阿斯麥的生意，背後又有怎樣的淵源？
在鬱金香國度荷蘭的南部，坐落著一個居民人數20餘萬的市鎮，艾恩德霍芬，阿斯麥（Advanced Semiconctor Material Lithography，直譯：先進半導體材料光刻技術）總部就位於此。
阿斯麥是一家採用「無工廠模式」的光刻設備生產商，主要產品就是光刻機，還提供服務於光刻系統的計量和檢測設備、管理系統等。
翻開全球晶元廠商的光刻機訂貨單，其中絕大多數都發給了阿斯麥。以2019年為例，阿斯麥共出貨229台光刻機，凈銷售額為118.2億歐元，凈利潤為25.2億歐元。相比之下，尼康出貨46台，佳能出貨84台。
▲阿斯麥、尼康、佳能出貨量對比
除了出貨量占優，阿斯麥（ASML）也代表著全球最頂尖的光刻技術。在阿斯麥2019年賣出的229台光刻機中，有26台是當今最高端的EUV（極紫外線）光刻機。而在EUV光刻市場，阿斯麥是唯一的玩家。
EUV光刻機採用13.5nm波長的光源，是突破10nm晶元製程節點必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機能從尼康、佳能那裡找到替代，但如果沒有阿斯麥的EUV光刻機，晶元巨頭台積電、三星、英特爾的5nm產線就無法投產。
時間邁進2020，光刻機市場三分的格局中，阿斯麥已穩居第一10多年。在「光刻機一哥」光環的背後，阿斯麥又有怎樣的故事？
智東西從技術路線選擇、先進技術攻關、資金支持、研發投入等方面入手，還原出這個故事真實、立體的脈絡。
羅馬不是一天建成的，阿斯麥的成功也絕非一蹴而就。今日風頭無兩的光刻機市場一哥背後，是一個卑微的開始和一段曲折的往事。
故事要從20世紀80年代講起，那時候距離摩爾定律被正式提出（1975年）不到10年，增加晶元晶體管數目還不是讓全球半導體學者擠破頭的課題。相應地，對光刻機光源波長的要求較低。當時的光刻機採用乾式微影技術，簡言之，光源發光，光線在塗有光刻膠的硅基底上「畫」就完了。
比如，1980年尼康推出的可商用步進式重復式光刻機（Stepper），光源波長為1微米。連晶元廠家英特爾也自己設了個光刻機部門，用買來的零件組裝光刻機。
通俗來說，步進式重復光刻機的工作原理是使塗有光刻膠的矽片與掩膜板對准並聚焦，通過一次性投影，在晶圓片上刻畫電路。
▲尼康1980年推出的光刻機NSR-1010G
在這種背景下，荷蘭電子產品公司飛利浦在實驗室鼓搗出了步進式掃描光刻技術的雛型，但拿不準這項技術的商業價值。思前想後，它決定拉人入伙，讓合作者繼續研發，這樣既有人分攤成本，也給了自己觀望的機會。
步進式掃描光刻技術的原理是，光線透過掩膜板上的狹縫照射，晶圓與掩膜板相對移動。完成當前掃描後，晶圓由工作台承載，步進至下一步掃描位置，進行重復曝光。整個過程經過重復步進、多次掃描曝光。
▲步進式掃描光刻技術示意圖
在飛利浦的設想里，理想的合夥人當然是技術先進、實力雄厚的美國大廠，如IBM、GCA之流。但在美國走了一圈後，飛利浦意識到了現實的骨感：各大廠商紛紛表示拒絕。
但是，並非所有人都不看好飛利浦的光刻項目，就在飛利浦碰壁之際，荷蘭小公司ASMI（ASM International，直譯為ASM國際）的老闆Arthur Del Prado跑來，自薦要接下飛利浦的光刻項目。
▲Arthur Del Prado
ASM International創立於1964年，是一家半導體設備代理商，對製造光刻機並無經驗。因此，飛利浦猶豫了1年的時間。最終，1984年，飛利浦選擇「屈就」，同意與ASMI公司各自出資210萬美元，合資成立阿斯麥，由這才開啟了阿斯麥的故事。
阿斯麥首任CEO為Gjalt Smit，任職時間為1984～1988年。據稱，由於阿斯麥成立初期知名度較低，Gjalt Smit曾在未經授權的情況下在阿斯麥招聘廣告中使用飛利浦的標志。
▲阿斯麥創始初期CEO Gjalt Smit
2013年至今，阿斯麥總裁兼CEO由Peter Wennink擔任。Peter Wennink早在1999年就加入了阿斯麥，曾擔任過執行副總裁、首席財務官等職。在加入阿斯麥之前，Peter就職於全球四大會計師事務所之一的德勤會計師事務所。
▲現任阿斯麥總裁兼CEO Peter Wennink
其實，在與飛利浦合資成立阿斯麥之前約10年的1975年，ASMI就曾在香港開設辦公室。最初，ASMI香港辦公室只負責銷售，隨著時間推移，該辦公室發展出了生產能力。1988年，ASMI在香港辦公室的基礎上成立了新公司ASMPT（ASM PACIFIC Technology，直譯為ASM太平洋技術）。到今天，ASMPT已成長為全球最大的半導體組裝和封裝技術供應商之一。
作為站在阿斯麥、ASMI、ASMPT背後的操盤手，Arthur Del Prado成為一代業界傳奇，被譽為「歐洲半導體設備行業之父」。2016年，這位傳奇人物以85歲高齡逝世，但與他淵源頗深的三家半導體公司仍在創造新故事。Arthur的長子Chuck Del Prado，於2008年接替Arthur繼任為ASMI CEO，並於2019年退休。ASMI現任CEO是Benjamin Loh。ASMPT現任CEO是Robin Ng。
回到阿斯麥的故事，飛利浦同意出資210萬美元成立阿斯麥，但拒絕提供更多資金和辦公場地。成立之初的阿斯麥只有31名員工，由於沒有辦公室，這31名員工就窩在飛利浦大廈外的簡易木板房裡辦公。當時， 飛利浦絕不會想到，這個幾乎被當作「棄子」的項目和退而求其次選擇的小公司，孕育出的是能把尼康拉下馬的光刻機新星。
▲垃圾車後面就是阿斯麥成立之初的簡易木板屋，其後的大廈是飛利浦大廈
如前所說，20世紀80年代還是光刻機的技術紅利期。在乾式微影技術的技術路線下，阿斯麥成立的第一年就造出了步進式掃描光刻機PAS 2000。 但是，技術的紅利期很快就會過去，之後發生的一切會造就光刻機市場的新格局。
▲阿斯麥於1984年推出的PAS 2000
進入21世紀，為了延續摩爾定律，人們改進了晶體管架構方式，但光刻機光源波長卡在了193nm上。這造成的後果是光刻「畫」出的線條不夠細致，阻礙晶體管架構的實現。要解決這個問題，最直接的方式就是把光源波長縮短，比如尼康、SVG等廠商試圖採用157nm波長的光線。
實踐中，實現157nm波長的光刻機並不容易。首先，157nm波長的光線極易被193nm光刻機使用的鏡片吸收；其次，光刻膠也要重新研發；另外，相比於193nm波長，157nm波長進步不到25%，回報率較低。但在當時，這似乎是唯一的辦法。
到了2002年，時任台積電研發副經理林本堅提出：為什麼非要改變波長？在鏡頭和光刻膠之間加一層光線折射率更好的介質不就行了？那麼什麼介質能增加光的折射率呢？林本堅說，水就可以。與乾式光刻技術相對，林本堅的技術方案被稱為浸沒式光刻技術。經過水的折射，光線波長可以由193nm變為132nm。
時間再往回推15年（1987年），林本堅就職於IBM，那時他就有了浸沒式光刻技術的想法。2002年晶元製程卡在65nm之際，林本堅看到了浸沒式光刻技術的機會。為了解決技術難題、消除廠商疑慮，林本堅花費半年時間帶領團隊發表3篇論文。
當時，業界質疑水作為一種清潔劑，會把鏡頭上的臟東西洗出來，還有人擔憂水中的氣泡、光線明暗等因素會影響折射效果。根據林本堅團隊的研究，他們提出了一種曝光機，可以保持水的潔凈度和溫度，使水不起氣泡。雖然這種曝光機並未在實際中被採用，但林本堅的研究證明了技術上的難題是可以被解決的。
他還親自奔赴美國、日本、德國、荷蘭等地，向光刻機廠商介紹浸沒式光刻的想法。但是，有能力進行研發的大廠普遍不買賬。
▲林本堅
個中原因也不難理解，自20世紀60年代起，玩家入局光刻機市場，在乾式光刻技術上投入了大量財力、人力、物力，好不容易踏出一條可行的技術路線。如果按照林本堅「加水」的想法，各位前輩就得「一夜回到解放前」，從技術到設備重新 探索 。很少有人捨得這么高的沉沒成本。但是，「很少有人」不代表「沒有人」。
奔波到荷蘭後，林本堅終於聽到了一個好消息： 阿斯麥願做這第一個吃螃蟹的勇士 。2003年10月份，ASML和台積電研發出首台浸沒式光刻設備——TWINSCAN XT：1150i。2004年，阿斯麥的浸沒式光刻機改進成熟。同年，尼康宣布了157nm的乾式光刻機和電子束投射產品樣機。
但是，一面是改進成熟的132nm波長新技術，一面是157nm波長的樣機，勝負不言而喻。
數據顯示，在2000年之前的16年裡，ASML占據的市場份額不足10%。2000年後，阿斯麥市場份額不斷攀升。 到2007年，阿斯麥市場份額已經超過尼康，達到約60%。
當命運之神把浸沒式光刻微影的機遇擺放到阿斯麥、尼康等玩家面前，只有阿斯麥勇敢地伸出手，而尼康則是成也乾式微影、敗也乾式微影。 在全球光刻機市場這一回合的較量中，阿斯麥選擇了正確的技術路線，從而贏得了後來居上的機會。
▲首台浸沒式光刻設備——TWINSCAN XT：1150i
如果說推出浸沒式光刻機讓阿斯麥領先尼康一步，那麼突破EUV光刻技術則讓它成為了名副其實的光刻機一哥。2010年至今，EUV光刻市場中只有阿斯麥一位玩家。
突破10nm節點能夠帶來的經濟效益不必贅述，在眾多玩家中，為什麼只有阿斯麥掌握了EUV光刻機的核心技術？實際上，這與它集合了美國、歐洲的頂級科研力量有關。 這段故事還要從1997年講起。
1997年，英特爾認識到跨越193nm波長的困難，渴望通過EUV來另闢蹊徑。為了能從其他玩家處借力，英特爾說服了美國政府，二者一起組建了一個名為「EUV LLC（The Extreme Ultraviolet Limited Liability Company，極紫外線有限責任公司）」的組織。EUV LLC里可謂是群英薈萃，商業力量有摩托羅拉、AMD、英特爾等，還匯集了美國三大國家實驗室。
EUV LLC里，美國成員構成了主體。在對外國成員的選擇上，英特爾和白宮產生了分歧。英特爾看中阿斯麥和尼康在光刻機領域的經驗，想拉他們入伙。但白宮認為如此重要的先進技術研發不該邀「外人」入局。
此時，阿斯麥顯示出了驚人的前瞻能力，它向美國表示：我願意出資在美國建工廠和研發中心，並保證55%的原材料都從美國采購，只求你們研究EUV一定要帶我玩。
如此誠意讓美國難以拒絕，就這樣，阿斯麥成為EUV LLC里唯二的兩家非美國公司之一，另一家是德國公司英飛凌。
反觀尼康，這一次則完全是吃了國籍的虧。1998年發表的文件《合作研發協議和半導體技術：涉及DOE-Intel CRADA的事宜》，寫明了尼康被排除在EUV LLC外的終極原因：「……有人擔心尼康會成功將技術轉移到日本，從而消滅美國的光刻工業。」
1997年到～2003年，阿斯麥和世界頂級的半導體領域玩家聚集在EUV LLC，用了6年時間回答一個問題：EUV有可能實現嗎？他們發現答案是肯定的。至此，EUV LLC使命完成，在2003年就地解散，其中各個成員踏上獨自研發之路。
其實，其他歐洲、日本、韓國的玩家也曾 探索 過EUV光刻技術。但是，他們的實力始終無法與匯集了美國頂級科研實力的EUV LLC相比，這意味著阿斯麥在EUV研發之路上佔得先機。國際光電工程學會（SPIE）官網寫出了EUV LLC的重要性：「如果不是EUV LLC對技術的形成和追求，EUV光刻技術就不會成為IC製造領域的未來競爭者。」
6年時間里，EUV LLC證明了用極紫外線作為光源造光刻機是可行的，但卻沒指出一條明路。到了2005年，EUV光刻機還是連個影子都沒有，但巨額的研發資金、難以跨越的技術瓶頸已經足以讓大多數玩家望而卻步。但是，阿斯麥還是不肯死心，並且決定要牽頭歐洲的EUV研發項目。 如果說在EUV LLC中，阿斯麥是蜷縮在角落裡等待被其他大玩家「帶飛」，那這一次，阿斯麥則是要自己做領頭雁。
研發過程面臨的困難無非集中在資金和技術兩方面，阿斯麥把它們逐個擊破。缺錢？那就去找，阿斯麥從歐盟第六框架研發計劃中拉來2325萬歐元經費。缺技術？阿斯麥集合3所大學、10個研究所、15個公司聯合開展了「More Moore」項目，著力攻堅。
終於，2010年，阿斯麥出貨了首台EUV光刻機。這台光刻機型號為NXE：3100，被交付給台積電，用於進行研發。
至此，在EUV市場，阿斯麥已經做到了人無我有，接下來的問題就是產品的迭代和進化。2013年，阿斯麥收購了光源提供商Cymer，為公司量產EUV設備打基礎。經過幾次升級，阿斯麥在2016年推出首台可量產的EUV光刻機NXE：3400B並獲得訂單。NXE：3400B售價約為1.2億美元，從2017年第二季度起開始出貨。直到今天，產品的迭代還在繼續。根據阿斯麥的信息，EXE：5000系列光刻機樣機最快在2021年問世。
從1997年到2010年，13年的艱難求索，終於讓阿斯麥攻克了EUV的技術高地。辛勤付出終有回報， 目前，阿斯麥仍是唯一掌握EUV光刻技術的廠商。
▲阿斯麥的最新EUV光刻機TWINSCAN NXE：3400C
根據公開信息，一台EUV光刻機售價約為1.2億美元，一台DUV光刻機的售價也要數千萬美元。在高額售價的背後，是前期研發階段巨量的資金投入。要支撐對光刻技術的研發，阿斯麥必須找到一條可持續的「財路」，否則就可能陷入困境。
事實上，阿斯麥也的確經歷過「財政危機」。1988年，阿斯麥進軍台灣市場，還未來得及在新的市場競爭中喘口氣，老東家ASMI就因無法獲得預期內的回報比作出撤資決定。同時，由於當時全球電子行業市場不樂觀，飛利浦也宣布了一項成本削減計劃。內外夾擊之下，阿斯麥幾近破產。好在危機時刻，時任阿斯麥CEO Gjalt Smit聯系了飛利浦董事會成員Henk Bodt，後者說服了飛利浦董事會，為阿斯麥拉來一筆約1億美元的「救命錢」。
這筆資金幫助阿斯麥在進軍台灣市場的初期站穩了腳。隨後幾年，阿斯麥憑借步進式掃描光刻機扭虧為盈，並於1995年3月15日在阿姆斯特丹和紐約證券交易所成功上市，上市首日市值為約1.25億美元。
▲Henk Bodt
為了能夠獲得充足的資金支持，2012年，阿斯麥提出一項 「客戶聯合投資計劃」（CCIP，Customer Co-Investment Program） ，簡單來說，就是接受客戶的注資，客戶成為股東的同時擁有優先訂貨權。這無疑是一個雙贏的舉措：把阿斯麥的研發資金壓力轉移出去，讓客戶為先進光刻技術的研發買單，這樣不僅使阿斯麥無後顧之憂地進行研發，也保證了客戶對先進光刻技術的優先使用權。
2012年，晶元製造行業3大龍頭英特爾、台積電、三星都推出了22nm晶元產品。CCIP計劃一經推出，這3家公司紛紛響應。根據協議，英特爾斥資41億美元收購荷蘭晶元設備製造商阿斯麥公司的15%股權，另出資10億美元，支持阿斯麥加快開發成本高昂的晶元製造 科技 。台積電投資8.38億歐元，獲取阿斯麥公司約5%股權。三星斥資5.03億歐元購得3%股權，並額外注資2.75億歐元合作研發新技術。
最終，阿斯麥以23%的股權共籌得53億歐元資金。要知道，2012年全年，阿斯麥的凈銷售額才約為47.3億歐元。
在 科技 圈，研發、創新能力就是生命力。華為5G、晶元技術為什麼強？任正非曾在接受采訪時表示，2020年華為將把約200億美元（約合人民幣1420億元）花在研發上。而在研發方面，阿斯麥與華為一樣「瘋狂」。
早在2002年，阿斯麥就敢向浸沒式光刻技術押注。到了今天，大力投資搞技術研發已經成為阿斯麥的傳統。
根據2019年度財報， 阿斯麥全年投入了20億歐元用於技術研發，佔到凈銷售額（118.2億歐元）的16.9% 。相比之下，2019年尼康在光刻系統上的投資為3.98億日元，佔到光刻系統營收（2397.28億日元）的約0.17%。
2007年開始，「時年」13歲的阿斯麥開始以領先的姿態傲然於光刻機市場，至今仍然如此。列出阿斯麥近些年的研發投入，或能解釋它這么多年來屹立不倒的原因。
▲近5年阿斯麥研發投入及營收情況
另外，在專利網站Patentscope上的搜索結果顯示， 阿斯麥申請的專利數目已經達到14444項 。阿斯麥雖然是一家商業公司，但支撐它走得更遠的，不是對金錢的追求，而是對技術的長遠投資。
回顧過去36年，阿斯麥從一個蜷縮在木板房中的小公司成長為一代光刻機巨擘，其中原因少不了 歷史 的機遇，如林本堅適時提出了浸沒式光刻技術的想法。但是，更具決定性意義的是阿斯麥准確的前瞻和果斷的選擇，比如，在21世紀初，阿斯麥放棄乾式微影，轉投浸沒式光刻技術；再比如，早在1997年，阿斯麥以自身妥協換來EUV LLC的入場券。對於商業與技術相互促進的關系，阿斯麥還有著深刻的理解，多年來對技術研發的大力投入，成為它屹立不倒的重要原因。手握頂尖的技術，阿斯麥還獲得了客戶的支持，從而在全球光刻機市場中走得更遠。
以阿斯麥這36年的歷程為鑒，對比我國。1977年，我國第一台光刻機誕生，加工晶片直徑為75毫米。今天，國產光刻機製造商有上海微電子、中科院光電所等，最先進的設備推進至22nm節點，而國際最先進工藝已突破5nm節點。國產光刻機無疑還有很長的路要走。
晶元是「中國製造」的痛點。不論是近期華為被美國斷供晶元的新聞，還是兩會政府工作報告中「國產化」「功率半導體」「感測器晶元」等話題被一再提及，背後的事實都讓人黯然：我們曾在一窮二白的條件下造出原子彈，但在GDP總量近100萬億人民幣的今天，中國還是難以獨立造「芯」。在種種困難中，光刻技術直接卡住了晶元製造的「脖子」。
要解決這一問題，技術攻關當然是必不可少的。另外，借力國外成熟產品或可幫助晶元製造商實現突破。2018年，我國晶元公司中芯國際花費約1.2億美元，向阿斯麥訂購了一台EUV光刻機。由於種種原因，目前，這台光刻機還未成功交付。我們期待它能夠盡快落地中國，助力我國的晶元事業再上一個台階。中國有市場、有人才，也不缺恆心與毅力，相信我國光刻機事業會有光明的未來。
參考文獻：
1、《曾經的光刻機霸主：尼康營收暴減九成，裁員 700 人》EE Times China
2、《全球半導體設備龍頭專題（一）》安信證券
3、《阿斯麥封神記：這家荷蘭公司，扼住了全球半導體晶元的咽喉》魔鐵的世界
4、《光刻機的發展與荷蘭ASML公司的故事》光纖在線
5、《做成那不可能之夢：低調華人科學家顛覆技術 影響人類》知識分子
6、《More Moore」 Shows European EUV Innovation at EUV 2006 in Barcelona》CORDIS
D. 中芯國際與阿斯麥簽訂購買單，這能解決晶元短缺問題嗎
中芯國際與阿斯麥簽訂購買單，這可以暫時緩解我國晶元短缺的問題，但是不可以解決我國的晶元問題跡御，我國晶元短缺問題還是需要我們自己來攻克。
從2018年開始，美國就對我國的晶元行業做出一些限制。2018年美國下令禁止美國公司向中興、華為等公司提供晶元，雖然華為的海思可以構造晶元，但是我國的晶元製造還是存在著很大的短板，就在這種背景下，我國的各種行業都被美國限制的很難受。特別是晶元行業，我國晶元行業發展較晚，在這次與美國的科技戰中也是顯示出不足，但是我國以中芯國際為首的晶元公司也在努力發展，積極的攻克多種難題，並且也研製出原子刻制技術，可以繞過光刻機製造晶元。
好了，以上就是我的全部看法，非常感謝你能夠讀到這里，如果你有其他的意見和建議，歡迎在評論區和我留言交流。
E. 荷蘭阿斯麥公司有英國技術公司嗎
不，荷蘭阿斯麥公司不擾搜冊是英國技術公司。阿斯麥公司是一家位於緩宏荷蘭的非營利性信息科技公司，主要致力於改善漏寬國際社會的可持續發展。
F. asml是哪個國家的
asml是荷蘭的。這是一家總部設在荷蘭埃因霍溫的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。
ASML為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。全球絕大多仔衫數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，比如英特爾（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台積電（TSMC）、中芯國際（SMIC）等。
ASML的產品簡介。
ASML的產品線分為PAS系凱陸列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列現已停產；AT系列屬於老型號，多數已經停產。市場上的主力機種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機型，分為乾式和沉浸式兩種，而NXT系列則是主推的高端機型，全部為沉浸式。
ASML下一代半導體設備—High-NA EUV 設備是將集光能力的鏡頭數值孔徑（NA）從0.33提高到0.55的設備。比現盯戚頃有的EUV設備處理更精細的半導體電路。
G. ASML是什麼意思
ASML (全稱: Advanced Semiconctor Material Lithography,目前該全稱己不做為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，是總部設在荷蘭Veldhoven的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。2006年，其全球凈銷售收入超過35億歐元。ASML在歐洲、亞洲及美國的50多個地區擁有6000多名員工（其中歐洲約3500，亞洲約1000， 美國約1500）。在2007年6月，VLSI公布的全球最佳晶元製造設備供應商榜上，ASML排名第二。2007財政年銷售收入為56億美元（38億歐元），增長了5.9%。同期凈收入增長了10.1%，達到了10億美元。凈收益占銷售收入的18.1%，而在2006年為17.4%。 51xunhui回答
H. ASML是什麼意思
1、荷蘭ASML公司 (全稱： Advanced Semiconctor Material Lithography，目前該全稱已經不作為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國台灣）。
2、光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
(8)如何買阿斯麥公司股票代碼擴展閱讀
光刻機工作原理
在加工晶元的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。
一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的晶元可以繼續塗膠、曝光。越復雜的晶元，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。
I. 一台機器賣一億歐元的荷蘭公司是哪一家，為什麼這么厲害
因為中興通訊被美國商務部禁售，這種只有行業人士才知道的高端設備也被大眾所知曉，這就是光刻機，它是生產晶元最為關鍵的設備之一。最高端的光刻機一台能賣一億美元，並且還得排隊購買，即便了下單一般21個月後才能供貨。
全球高端光刻機來自荷蘭ASML，中文叫阿斯麥，這家全球最頂級的光刻機製造商目前佔全球高端高光刻機90%以上的市場份額，也就是說ASML公司處於絕對壟斷地位。
荷蘭ASML是從著名電子製造商飛利浦獨立出來的，專注高端技術研發，生產高端光刻機。公司的經營策略有兩大特色，一是進行全球采購，確保能得到最先進的元器件，二是優先供貨給投資者，所以IBM、台積電、三星、英特爾等都佔有公司股份，這對ASML來說即保證了充足的研發資金又能對高端產品市場銷售進行足夠的控制。
ASML公司最新產品EUV，也就是極紫外線光刻機，預計2019年供貨給中芯國際，該設備是全球最高端也是唯一可以生產10納米以下晶元的光刻機，這對IC行業發展影響巨大。
荷蘭有家高 科技 公司，叫做ASML，中文叫做阿斯麥公司，是一家專門生產製造電子晶元機器的公司，總部設在荷蘭的Veldhoven。這里生產的機器，目前每台價值1億歐元左右，而且訂單已經排到明年。今年計劃供應22台，明年至少30台。
這家荷蘭的阿斯麥公司，是世界晶元製造業的領頭羊，其客戶包括IBM、TSMC和Intel等晶元巨頭。 阿斯麥公司在這個產品市場的佔有率，目前達到90%，競爭對手是日本的佳能和尼康。
隨著手機、掌上電腦和各種電子設備的流行，對電子晶元的需求日增。該公司總裁Peter Wennink去年曾說，需求很多，越來越多。估計到2020年全世界有500億台電腦和互聯網連接，因此，對運算和記憶用的晶元需求數量很大。
阿斯麥原來是荷蘭電子巨頭飛利浦屬下的一個研發半導體產品的部門，後來從飛利浦公司分離出來，1984年跟飛利浦合組新公司，是該公司ASM International和Philips的合並，用了ASM Lithography的名字，簡稱就是ASML。
多年來，該公司不斷創新，不斷推出新一代產品，保持著世界領先的地位。從最初只能生產45個納米（Nanometer）的晶元，採用新的技術，在2024年，將推出製造只有3個納米的晶元的新機器。
這家公司，從1995年開始，已經在阿姆斯特丹和美國的NASDAQ上市。
日前，該公司在發表最新業績的同時，宣布全球招聘3000人。公司總裁Peter Wennink說，荷蘭國內這方面的專業技術人才已經逐一梳理過了，必須引入外國的人才，否則公司難以得到更大的發展。這位總裁說，現在人人談論比特幣、區塊鏈、人工智慧、自動 汽車 等，尚沒有提及手機和雲計算，而這一切，都離不開晶元這個產業，而晶元產業則缺少不了凳態製造的基礎，這是基礎中的基礎！
去年，該公司全球一共有10萬多人求職，最終聘了2500人，40%是荷蘭人，其餘是外國人，聘用的人員過半在荷蘭工作。
根據2016年的數字，全公司一共有將近17萬名員工，其中2600多是臨時職位，員工分別來自100多個國家。
在荷蘭華人學者與工程師協會主持歲豎舉辦的人才論壇上，有在ASML工作的華人學者，呼籲華人專業人士前往ASML求職。
這就是著名的阿斯貓公司了。作為全世界晶元產業鏈、食物鏈的最頂端產品，阿斯貓的光刻機是這個星球上單價最貴最高的產品之一，關鍵人家還是有著極高的 科技 含量，全世界也僅此一家，別無分號。
阿斯貓最早是飛利浦旗下的產業，後來慢慢獨立，外界也不容許這么關鍵的產品被放在飛利浦的帳下，還是讓它保持相對獨立更好，後來包括三星還有幾家晶元業巨頭，也買了些阿斯貓的股份，核心還是不讓一家獨大。
阿斯貓的牛逼，不僅在於它壟斷了晶元行業最牛逼的光刻機，而且它的產業鏈上也集中了德國光學巨頭蔡司、日本光學棗雀源巨頭尼康佳能等，對於從14nm到7nm演進的晶元業，阿斯貓的作用毋庸置疑。
中國不是不想發展光刻機，但據說中國目前光刻機的技術極限是幾十納米，差不多比阿斯貓落後了幾十年。
當然，最近有個好消息就是，阿斯貓並不是絕對的對華封殺，今年好像賣給了中國企業一台光刻機，當然還得考慮阿斯貓的年產量太低了，到底啥時能交貨，還不知道。
從廣面聊聊吧；花絮聊聊吧。
對於其發展過程、作用、名字這里就不贅述了。
這就是現代戰爭。
你想買、他還不賣給你，你想做、你做不了。誰出錢使他們變成百萬富翁、千萬富翁、億萬富翁？是你、我，任何一個使用電腦、手機、高精儀器的人。
一噸黃金大約3700萬歐元。
一噸碳鋼大約600歐元。
利潤率、利益量多麼巨大！這地方能不富裕？
這樣的企業很多很多，如暴雪、AMD……，沒人提您可能都不知道……
這么巨大利益的獲取是槍炮能達到的嗎？
是多年的勵精圖治、信仰科學、迴避口頭上的你對我錯、發展高度文明……的環境促成。
世界新的利益得失必將是在高精尖產品上，隨著時間推移以後更明顯。
這樣的國家很多，像瑞士的手錶、醫療設備……
那些一天到晚強調那幾架破飛機速度、導彈速度、說狠話、拍胸脯的該醒醒神了，落後戰勝不了先進，愚昧最終被智慧詔安。
古往今來決定博弈輸贏的是:以優質的發展環境、聚攏高精尖人才、高精尖 科技 、高精尖工業及工業總量為核心的綜合國力，除此無它。
荷蘭什麼公司這么牛，一台機器一億歐？它就是全球最大晶元光刻設備市場供貨商阿斯麥 (ASML) 。
阿斯麥公司ASML Holding NV(NASDAQ:ASML、Euronext:ASML)創立於1984年，是從飛利浦獨立出來的一個半導體設備製造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，於2001年改為現用名，總部位於荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven），全職雇員12,168人，是一家半導體設備設計、製造及銷售公司。
目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾，三星，海力士，台積電，聯電），格芯及其它半導體廠。隨著摩爾定律的發展，晶元走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻系統，全球只有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。
ASML的光刻機怎樣幫晶元助力？我們可以看一下ASML官方的介紹：
簡單來說，這種光刻設備是一種投影系統。這個設備由50000個零件組裝而成。
實際使用過程中，則通過激光束被投穿過一片印著圖案的藍圖或光掩模，光學鏡片將圖案聚焦在有著光感化學塗層的硅晶圓上，當未受曝光的部分被蝕刻掉時，圖案隨即顯現…
此製程被一再重復，用以在單個晶元上製造數以十億計的微型結構。晶圓以2納米的精準度互相疊加，並加速移動，快如閃電，達到這種精確度可謂高 科技 ，要知道，即使頭發絲也有十萬納米，2納米的精細可想而知。
朋友們，通過我的簡單介紹是不是增長了些許知識？最後祝我們大中華，在 科技 領域快步趕上！
這家公司就是荷蘭的asml公司，主要生產光刻機，在2017年，該公司賣出了198台光刻機，壟斷了80%的高端光刻機市場。所有晶元製造商都必須要買asml光刻機，否則根本就無法生產晶元，而且一定要買最新的光刻機。
但是，即便如此，asml的光刻機仍然供不應求，需要提前預訂，否則根本來不及生產，據悉今年80%的產品都是去年預訂的，如果不提前預訂根本買不到asml光刻機。
你認為哪家公司能把中國晶元做好？小米還是華為？
荷蘭光刻機巨頭ASML，全名Advanced Semiconctor Material Lithography（先進半導體材料光刻），是一家位於荷蘭艾恩德霍芬的企業，目前是世界頂級的半導體設備生產商。
拜中美貿易所賜，這家荷蘭企業在中國名聲大噪，但是人家確實是有個實力，因為人家占據著70%的全球光刻機的市場，目前可以說是世界頂級的半導體加工設備製造商，而尼康和佳能和ASML的差距不是一星半點。
1984年，世界電器巨頭飛利浦和半導體製造商ASMI聯合起來，組建了ASML，專注於開發光刻系統。創業之初，飛利浦只給ASML投了210萬美元，整個ASML團隊也就只有幾十人。光從這個金額和團隊規模就能看出當時的ASML有多艱難了。此前的ASML，只是飛利浦旗下的一個品牌。
1995年，ASML在阿姆斯特丹和紐約上市，飛利浦隨後漸漸拋售了它在ASML全部的股份。
2001年前後，ASML推出了名為TWINSCAN的雙工件台光刻機。
2006年，ASML試制了第一台EUV光刻機樣機。
2012年，ASML開始邀請其主要客戶英特爾、三星和台積電入股自己，攤平每年高達十億歐元的研發成本，聯合製造量產型EUV光刻機，並且還保證優先給以上三家企業供貨。通過這種方式，世界三大晶元製造企業也完成了和ASML的利益捆綁，形成了一個用資本和技術鑄造的利益聯合體。
這也就是為什麼英特爾、三星和台積電只有這三家公司目前的晶元加工技術為什麼一直領先世界半導體製造行業。
今天，ASML占據了全球光刻機市場七成以上的份額，在高端EUV光刻機領域一家獨大。作為一家製造業企業，每年的毛利率可以達到44%，幾乎和輕資產的互聯網大廠處在同一個水平。
荷蘭阿斯麥（ASML）一家200來人的小公司，這是眾所周知的生產晶元製造設備——光刻機成套設備。這種設備全世界也就僅此一家，一般都是排隊預定的。阿斯麥（ASML）產量並不高，年產量也就5～6台套設備。由於阿斯麥設備含有部分美國技術，所以美國以此為由打壓華為，限制對中國出售該設備。
其實，阿斯麥（ASML）發展曾經遇到技術瓶頸時台積電工程師對其有過突破瓶頸之重大貢獻，這位工程師後來由於其它原因與張汝京一道離開了台積電回到大陸創辦了如今已經走過了20個年頭的中芯國際。如今的中芯國際已經成為了中國在晶元製造領域的國家隊。光刻機畢竟是目前世界上精度最高，技術最復雜的設備。我們相信中芯國際一直在努力突破光刻機的技術瓶頸。 「長風破浪會有時，直掛雲帆濟滄海」。 中芯國際終究會使中國人有揚眉吐氣那一天的到來！
ASML公司(全稱： Advanced Semiconctor Material Lithography)，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國台灣）。是總部設在荷蘭Veldhoven的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。
總部位於荷蘭Veldhoven，歐洲人均科研經費排名第二的高 科技 公司。2010年，其全球凈銷售收入超過45億歐元。2011年，賣出222套機器
，全球凈銷售收入56.51億歐元，凈利潤14.67億歐元。截止2011年，全球市場佔有率75%。
中國分公司地址：上海市張江高 科技 園區松濤路560號A棟17樓
ASML總部，荷蘭Veldhoven
產品服務
ASML為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾(Intel)，三星(Samsung)，海力士(Hynix)，台積電(TSMC)，中芯國際(SMIC)等。
ASML的產品線分為PAS系列，AT系列，XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現已停產，AT系列屬於老型號，多數已經停產。市場上主力機種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機型，分為乾式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現在主推的高端機型，全部為沉浸式。
目前已經商用的最先進機型是Twinscan NXT 1950i，屬於沉浸式光刻機，用來生產關鍵尺度低於38納米的集成電路。
目前市場上提供量產商用的光刻機廠商有三家：ASML, 尼康(Nikon)，佳能(Canon)。 根據2007年的統計數據，在中高端光刻機市場，ASML占據大約60%的市場份額。而最高端市場（例如沉浸式光刻機），ASML大約目前占據80%的市場份額。不過，競爭對手尼康也在奮力追趕，主要優勢在於相對較低的價格。
在中國
ASML一直致力於中國市場的拓展與合作，包括香港在內目前已經在北京，上海，深圳，無錫等地開設分公司，為客戶提供及時的服務和咨詢。隨著公司業務的擴大和中國半導體產業的發展，相信大連，成都，重慶，武漢等新興的半導體基地也會納入ASML的版圖之內。ASML有信心和中國半導體從業者一道，為技術創新和市場拓展開辟道路。目前ASML已經與浙江大學，大連理工大學，哈爾濱工業大學，上海交通大學等著名高等學府簽定獎學金及科研合作協議，為培養和吸引本地人才，做出自己的一份貢獻。
這個能卡主世界半導體行業脖子的公司，叫做阿斯麥，是世界上最頂級的光刻機製造商，全世界沒有任何一家公司能與其並駕齊驅。
目前我國唯一能生產光刻機的公司是上海微電子（SMEE），占據了中國80%的市場份額。但即便是中國最先進的光刻機廠商，也僅僅是能90nm的光刻機。而這個牛逼的阿斯麥ASML公司，已經可以生產7nm，甚至是5nm的EUV光刻機了，差距真不是一代兩代。
1、ASML的成立在阿斯麥誕生之前，光刻機領域是索尼的天下。因為光刻機所使用的核心技術是感光和投影，索尼相機技術世界聞名，做光刻機自然水到渠成，比如我們以前經常用到的CD，就和這個比較類似。
阿斯麥成立之初，要技術沒技術，要人才沒人才，錢也少的可憐，直到他們開始和飛利浦實驗室的合作，才開始了他的騰飛之路。
其實，早在幾年前，飛利浦實驗室就研發出自動化步進式光刻機(Stepper)的原型。但對此他們自己也沒有信心，求著和其他大廠合作，也沒人搭理他。後來，阿斯麥瞅准這個機會死命追求這個白富美，飛利浦實驗室看不起這個矮窮矬，考慮了一年多，看到真的沒人接盤，才考慮嫁給它，成立股權對半的合資公司。
2、超越索尼和飛利浦成立合資公司，也僅僅是讓ASML在光刻機行業立足了。但光刻機行業依然是索尼的天下，阿斯麥的市場份額長期不超過10%，被索尼遠遠甩在身後，直到一代牛人林本堅的出現。
在此之前，製作光刻機使用的一直是以空氣為介質的「乾式」投影技術，但這種技術發展到一定階段遇到了一個瓶頸，那就是始終無法將光刻光源的193nm波長縮短到157nm。
當時，全世界的半導體行業都科學家，都投身光刻機領域，提出了很多方案，但要麼是不具有可行性，要麼就是太過超前，沒有一個可以用的。
當時時任台積電研發副總經理的林本堅也注意到這個問題，他考慮如果157nm難以突破，為什麼不退回到技術成熟的193nm，把透鏡和矽片之間的介質從空氣換成水，這樣就可以突破157nm的限制，將波長所小到132nm。這個方案被成為「浸入式光刻技術」
雖然「浸入式光刻技術」更加現金，但當時卻不被市場所接受，因為當時 社會 已經投入了巨資研究，一旦放棄，相當於之前的投入都打了水漂。所以，即便林本堅導出安利他的技術，依然沒有任何公司願意買賬，直到遇到了阿斯麥。
林本堅加入阿斯麥後，迅速攻克了「浸入式光刻技術」的一系列難題，並達成了與inter和台積電的合作。後來阿斯麥還與台積電合作，雙方共同研發成功全球第一台浸潤式微影機。這種技術比索尼的乾式微影技術技術更先進，成本也更低，所以迅速搶佔了屬於索尼的市場。
到了2009年，阿斯麥已經佔有了70%的市場份額，索尼也從多年老大，憋屈的成為老二。
3、美國的助攻雖然阿斯麥在與索尼的競爭中暫時獲勝，但索尼也卯足力氣要追趕上去。但美國的排擠，直接熄滅了索尼的所有幻想。
Intel和美國能源部共同發起成立EUV LLC組織，匯聚了美國頂級的研究資源和晶元巨頭，包括勞倫斯利弗莫爾實驗室、勞倫斯伯克利實驗室和桑迪亞國家實驗室等三大國家實驗室，聯合摩托羅拉（當時如日中天）、AMD等企業，投入2.25億美元資金，集中了數百位頂尖科學家，只為一件事：極紫外光刻機到底可不可行？
但這樣一個重要的組織，卻因為美國政府的干預，把索尼排除在外。
這時候的索尼所有的研究和技術只能自己一個人搞，而阿斯麥則是集合了全世界最頂級的智慧，享受全世界半導體領域的成果。
後來阿斯麥還在2013年，分別並購了美國光刻機巨頭SVGL(矽谷光刻集團)和美國準分子激光源企業Cymer，打通了極紫外光刻機的生產產業鏈。然後，阿斯麥就生產出了5nm製作工藝的極紫外光刻機，徹底奠定了領先地位。
以上就是阿斯麥公司的發展經歷，可以說阿斯麥的成功固然是自身苦心經營的結果，但也是全世界的結晶，是全世界最優秀的科學家的努力，才一步步突破了光刻機的種種限制，成就了阿斯麥如今蔑視群雄的霸主地位。
所以， 很多時候我們都講，中國這么大，這么厲害，為什麼連一台光刻機都造不出來的時候，我們應該想到，中國一個國家人才，是否能抵得上全世界的智慧？即便如此，我們的科學家和企業家依然在做，這是無奈之舉，也是我們大國崛起的必經之路。
J. 荷蘭ASML公司詳細資料大全
荷蘭ASML公司 (全稱： Advanced Semiconctor Material Lithography，目前該全稱已經不作為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，中文名稱鎮耐閉為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國台灣）。
這是一家總部設在荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜積體電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。
基本介紹
- 中文名 ：ASML
- 外文名 ：Advanced Semiconctor MaterialLithography
- 注冊標識 ：ASML Holding N.V
- 中文名稱 ：阿斯麥、艾司摩爾
公司簡介
總部位於荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven），歐洲人均科研經費排名第二的高科技公司。2010年，其全球凈銷售收入超過45億歐元。2011年，賣出222套機器，全球凈銷售收入56.51億歐元，凈利潤14.67億歐元。 ASML在歐洲、亞洲及美國的50多個地區擁有9245名員工，其中固定員工7184（歐洲4202，亞洲1538， 美國1444），男女比例為9：1。截止2011年，全球市場佔有率75%。 中國分公司地址：上海市張江高科技園區松濤路560號A棟17樓。 ASML總部，荷蘭Veldhoven產品服務
ASML為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，套用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，比如英特爾（Intel），三星（Samsung），海力士（Hynix），台積電（TSMC），中芯國際（SMIC）等。 ASML的產品線分為PAS系列，AT系列，XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現已停產；AT系列屬於老型號，多數已經停產。市場上的主力機種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF雷射光源，XT系列是成熟的機型，分為乾式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現在主推的高端機型，全部為沉浸式。 目前已經商用的最先進機型是Twinscan NXT 1950i，屬於沉浸式光刻機，用來生產關鍵尺度低於38納米的積體電畝雹路。 TWINSCAN系列 ASML正在加緊研製基於極紫外（EUV）光源的新型光刻機，型號定為NXE系列。如果量產成功，將成為劃時代的產品，有望將關鍵尺寸縮小至10nm以下，並且可以顯著提高積體電路質量。技術前景
除了目前致力於開發的TWINSCAN平台外，ASML還在積極與IMEC, IBM等半導體公司合作，開發下一代光刻技術，比如EUV（極紫外線光刻），用於關鍵尺度在22納米甚至更低的積體電路製造。目前ASML已經向客戶遞交若乾颱EUV機型，用於研發和實驗。同時，基於傳統TWINSCAN平台的雙重曝光等新興技術，也在進一步成熟和研發過程當中。07年末三星(Samsung)宣布成功生產的36納米快閃記憶體，基於的便是雙重曝光技術。市場份額
目前市場上提供量產商用的光刻機廠商有三家：ASML, 尼康(Nikon)，佳能(Canon)。 根據2007年的統計數據，在中高端光刻機市場，ASML占據大約60%的市場份額。而最高端市場（例如沉浸式光刻機），ASML大約目前占據80%的市場份額。不過，競爭對手尼康也在奮力追趕，主要優勢在於相對較低的價格。在中國
ASML一直致力於中國市場的拓展與合作，包括香港在內目前已經在北京，上海，深圳，無錫等地開設分公司，為客戶提供及時的服務和咨詢。隨著公司業務的擴大和中國半導體產業的發展，相信大連，成都，重慶，武漢等新興的半導體基地也會納入ASML的版圖之內。ASML有信心和中國半導體從業者一道，為技術創新和市場拓展開辟道路。目前ASML已經與浙江大學，大連理工大學，哈爾濱工業大學，上海交通大學等著名高等御裂學府簽定獎學金及科研合作協定，為培養本地人才，做出自己的一份貢獻。相關事件
收購睿初科技
brion ASML於07年正式完成對美國睿初(Brion)科技的收購，使之成為旗下重要一員。睿初科技是建立在美國矽谷的高科技公司，致力於計算光刻等方面的服務，用於檢測光刻缺陷及提出相應修正解決方案，在同行業中處於領跑位置。 睿初科技總部位於美國加州Santa Clara。收購Cymer
ASML於2012年10月宣布收購美國Cymer公司，以加快EUV的研發進度。Cymer公司是世界領先的準分子雷射源提供商，發明了如今半導體製造中最關鍵的光刻技術所需的深紫外（DUV）光源。產品主要特性是：頻寬窄，運行速度高，可靠性強。Cymer光源在批量生產符合特定規格的的世上最先進的半導體晶片時起著決定性的作用。